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一种带有永磁机构的真空灭弧室

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201420740776.2
  • IPC分类号:H01H33/664;H01H33/666
  • 申请日期:
    2014-12-02
  • 申请人:
    沈阳工业大学
著录项信息
专利名称一种带有永磁机构的真空灭弧室
申请号CN201420740776.2申请日期2014-12-02
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01H33/664IPC分类号H;0;1;H;3;3;/;6;6;4;;;H;0;1;H;3;3;/;6;6;6查看分类表>
申请人沈阳工业大学申请人地址
辽宁省沈阳市沈阳经济技术开发区沈辽西路111号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人沈阳工业大学当前权利人沈阳工业大学
发明人曹雨晨;桑雷
代理机构沈阳亚泰专利商标代理有限公司代理人韩辉
摘要
一种带有永磁机构的真空灭弧室,由触头部分和永磁机构部分组成,包括静导电杆(1)、主屏蔽罩(2)、静触头(3)、动触头(4)、动导电杆(5)、屏蔽罩(6)、磁轭(7)、绝缘树脂(8)、合闸线圈(9)、永磁体(10)、分闸线圈(11)、软导体(12)、工作气隙(13)、绝缘外壳(14)、外壳挡板(15)、绝缘填充物(16)、高性能导磁材料(17),所述的永磁机构设置在灭弧室内部实现内部开断。本实用新型可以有效的利用灭弧室内部的空间,与以往的真空短路器相比具有减小的体积,较少的零部件,可以减少故障率;与以往的灭弧室相比,由于永磁机构完全封闭于灭弧室中不需要波纹管密封效果好,制造工艺简单。

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