“坪区”毛细管X射线会聚透镜

发明专利无效专利

申请号：
CN200910119849.X
IPC分类号：G21K1/06
申请日期：
2009-03-20
申请人：
北京师范大学

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专利名称	“坪区”毛细管X射线会聚透镜
申请号	CN200910119849.X	申请日期	2009-03-20
法律状态	撤回	申报国家	暂无
公开/公告日	2009-08-05	公开/公告号	CN101499327
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G21K1/06 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G21 核物理；核工程 G21K 未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜〔2〕 G21K1/00 粒子或电离辐射的处理装置，如聚焦或慢化（电离辐射滤波器入G21K 3/00；中子、带电粒子、中性分子束或中性原子束的产生或加速入H05H 3/00至H05H 15/00）〔2〕 G21K1/06 应用衍射、折射或反射，如单色仪（G21K 1/10，G21K 7/00优先）〔2〕	IPC分类号	G;2;1;K;1;/;0;6查看分类表>
申请人	北京师范大学	申请人地址	北京市海淀区新街口外大街19号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京师范大学	当前权利人	北京师范大学
发明人	刘志国;孙天希;滕玥鹏;杨科
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

“坪区”毛细管X射线会聚透镜一种利用X射线全反射原理设计的X射线光学器件，它是利用多毛细管将发散的X射线会聚为带有“坪区”的微焦斑，“坪区”处X射线强度分布均匀度高，且具有较高的功率密度增益，“坪区”的大小在1－60微米范围内，适用于对0.2－40keV范围内X射线进行会聚，“坪区”处X射线强度分布均匀度在2％－6％范围内，“坪区”处功率密度增益的数量级在102－103范围内。此种器件特别适用于对大气颗粒物等微小颗粒物进行单颗粒分析。

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