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组合掩模版

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201921882973.7
IPC分类号：G03F1/42;G03F7/20;G03F9/00;H01L23/544
申请日期：
2019-11-04
申请人：
福建省晋华集成电路有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	组合掩模版
申请号	CN201921882973.7	申请日期	2019-11-04
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/42 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/38 具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备〔2012.01〕 G03F1/42 校准或对齐特征，例如掩膜基板上的校准标记〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;4;2;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;9;/;0;0;;;H;0;1;L;2;3;/;5;4;4查看分类表>
申请人	福建省晋华集成电路有限公司	申请人地址	福建省泉州市晋江市集成电路科学园联华大道88号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	福建省晋华集成电路有限公司	当前权利人	福建省晋华集成电路有限公司
发明人	巫奉伦;王嘉鸿;夏忠平;黄建维
代理机构	上海思捷知识产权代理有限公司	代理人	王宏婧

摘要

本实用新型提供了一种组合掩模版。通过组合使用第一掩模版和第二掩模版，以界定出对位标记的图形，从而使得所形成的对位标记的结构更为复杂且精度更高，进而基于该对位标记执行光刻工艺时，即有利于提高光刻工艺的对准精度，减小光刻工艺的对位偏差。以及，在将该对位标记结合至半导体器件的制备过程中，则相应的能够提高所形成的半导体器件的性能。

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