一种用于ITO-Ag-ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201610860875.8
IPC分类号：C09K13/06
申请日期：
2016-09-29
申请人：
杭州格林达化学有限公司

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著录项信息

专利名称	一种用于ITO-Ag-ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法
申请号	CN201610860875.8	申请日期	2016-09-29
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2017-03-08	公开/公告号	CN106479504A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09K13/06 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09K 不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用 C09K13/00 蚀刻，表面光亮或浸蚀组合物〔2〕 C09K13/04 含一种无机酸〔2〕 C09K13/06 带有机材料的〔2〕	IPC分类号	C;0;9;K;1;3;/;0;6查看分类表>
申请人	杭州格林达化学有限公司	申请人地址	浙江省杭州市萧山区杭州萧山临江工业园区红十五路9936号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	杭州格林达电子材料股份有限公司	当前权利人	杭州格林达电子材料股份有限公司
发明人	胡涛;倪芸岚;高立江;邢攸美;龚升;尹云舰;方伟华
代理机构	杭州赛科专利代理事务所（普通合伙）	代理人	冯年群

摘要

本发明涉及一种用于ITO‑Ag‑ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法，其重量百分比组成如下：硝酸5～15％，硫酸5～15％，醋酸5～25％，添加剂0.01～1％，余量为水，所述添加剂为碱金属盐。该蚀刻液的制备方法为:按比例依次将电子级硫酸、电子级硝酸和电子级醋酸加入到混配釜中，然后加入添加剂和余量高纯水，搅拌循环后过滤。该蚀刻液蚀刻能力强，蚀刻精度高无残留。该蚀刻液以硫酸为原料，不含磷酸，蚀刻液黏度低，蚀刻过程中药液带出量少，蚀刻液寿命长，有利于降低蚀刻液的成本。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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