湿法腐蚀制备精细金属掩膜漏板的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201010228796.8
IPC分类号：G03F1/00;G03F7/00
申请日期：
2010-07-16
申请人：
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

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著录项信息

专利名称	湿法腐蚀制备精细金属掩膜漏板的方法
申请号	CN201010228796.8	申请日期	2010-07-16
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2010-11-17	公开/公告号	CN101887214A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备〔3，2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;0;0;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	申请人地址	吉林省长春市东南湖大路3888号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	当前权利人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
发明人	李志明;孙晓娟;宋航;黎大兵;陈一仁;缪国庆;蒋红
代理机构	长春菁华专利商标代理事务所	代理人	陶尊新

摘要

湿法腐蚀制备精细金属掩膜漏板的方法，涉及真空镀精细图形镀膜的过程中的掩膜漏板的加工领域，它解决了现有采用化学腐蚀的方法制备金属掩板尺寸误差大，并且在加工过程中金属掩膜漏板容易发生侧腐的问题，本发明方法为：首先选择铁铬合金薄片作为金属掩膜漏板基材，其次对所述的金属基材双面蒸镀不同的金属材料，再次采用光刻方法实现双面精确紫外曝光，最后通过自制的具有选择性腐蚀特性的化学腐蚀液进行腐刻，实现金属掩膜漏板的精细加工。本发明所述的方法能够制备出高精细的图形完整的金属掩膜漏板。本发明适用于精细金属掩膜漏板的制备领域。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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