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一种低温烧结YIG旋磁铁氧体材料及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110324952.9
  • IPC分类号:C04B35/40;C04B35/622;C04B35/626;C04B35/64;H01F1/34;H01F41/02
  • 申请日期:
    2021-03-26
  • 申请人:
    电子科技大学
著录项信息
专利名称一种低温烧结YIG旋磁铁氧体材料及其制备方法
申请号CN202110324952.9申请日期2021-03-26
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2021-08-10公开/公告号CN113233885A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C04B35/40IPC分类号C;0;4;B;3;5;/;4;0;;;C;0;4;B;3;5;/;6;2;2;;;C;0;4;B;3;5;/;6;2;6;;;C;0;4;B;3;5;/;6;4;;;H;0;1;F;1;/;3;4;;;H;0;1;F;4;1;/;0;2查看分类表>
申请人电子科技大学申请人地址
四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人电子科技大学当前权利人电子科技大学
发明人马永祥;张怀武;李颉;徐秉川
代理机构电子科技大学专利中心代理人甘茂
摘要
本发明属于电子陶瓷技术领域,具体提供一种低温烧结YIG旋磁铁氧体材料及其制备方法,用以解决现有低温烧结YIG旋磁铁氧体材料在LTCC工艺下均难以满足低温烧结以及旋磁性能优异要求的问题。本发明提供一种低温烧结YIG旋磁铁氧体材料Y2.1Bi0.9Fe5‑3xZn2xVxO12、0<x≤0.06,具有单一石榴石结构,Bi3+离子占据石榴石晶格十二面体、取代一部分Y3+离子,V5+离子占据八面体、取代一部分Fe3+离子,同时引入金属离子Zn2+离子,实现多离子取代活化YIG铁氧体晶格,促进YIG铁氧体900~960℃下低温烧结的同时,改善材料的微波特性较高的饱和磁化强度、较低的矫顽力、较低的微波介电损耗和磁损耗,使之满足LTCC技术要求,对集成度要求高、体积要求小的微波铁氧体器件的制造提供基础材料。

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