由积层制造工艺所生产的研磨垫

发明专利有效专利

申请号：
CN202010531656.1
IPC分类号：B24B37/20;B24B37/22;B24B37/26;B24D18/00;B29C64/112;B33Y80/00
申请日期：
2015-10-16
申请人：
应用材料公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	由积层制造工艺所生产的研磨垫
申请号	CN202010531656.1	申请日期	2015-10-16
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-09-08	公开/公告号	CN111633555A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B37/20 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B37/00 研磨机床或装置；附件（B24B 3/00优先） B24B37/11 研具〔2012.01〕 B24B37/20 用于加工平面的研磨垫〔2012.01〕	IPC分类号	B;2;4;B;3;7;/;2;0;;;B;2;4;B;3;7;/;2;2;;;B;2;4;B;3;7;/;2;6;;;B;2;4;D;1;8;/;0;0;;;B;2;9;C;6;4;/;1;1;2;;;B;3;3;Y;8;0;/;0;0查看分类表>
申请人	应用材料公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	应用材料公司	当前权利人	应用材料公司
发明人	R·巴贾杰;D·莱德菲尔德;M·C·奥里拉利;B·福;A·J·康纳;J·G·方;M·科尔内霍;A·乔卡里汉;M·F·雅玛木拉;R·卡基雷迪;A·库马;V·哈里哈兰;G·E·蒙柯;F·C·雷德克;N·B·帕蒂班德拉;H·T·恩古;R·达文波特;A·辛哈
代理机构	上海专利商标事务所有限公司	代理人	杨学春;侯颖媖

摘要

本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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