一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201710755090.9
IPC分类号：H01L51/56;H01L27/32
申请日期：
2017-08-29
申请人：
京东方科技集团股份有限公司

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专利名称	一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置
申请号	CN201710755090.9	申请日期	2017-08-29
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-03-05	公开/公告号	CN109428007A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L51/56 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L51/20 （转入H01L 51/05，H01L 51/42，H01L 51/50） H01L51/50 专门适用于光发射的，如有机发光二极管（OLED）或聚合物发光器件（PLED）（有机半导体激光器入 H01S 5/36）〔8〕 H01L51/56 专门适用于制造或处理这种器件或其部件的方法或设备〔8〕	IPC分类号	H;0;1;L;5;1;/;5;6;;;H;0;1;L;2;7;/;3;2查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司
发明人	代青
代理机构	北京天昊联合知识产权代理有限公司	代理人	刘悦晗;陈源

摘要

本发明提供一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，在不增加平坦层总厚度的前提下，通过分两次形成两个平坦化层，得到包括两段式平坦化结构的显示基板，在形成第一平坦化层后，可以有效降低显示基板表面的段差，从而在制备第二平坦化层时，降低工艺难度，并满足平坦化工艺的要求。经试验证明，两层平坦化工艺可将显示基板表面的段差降低到20nm以内，从而保证形成在平坦化层上的功能器件能够正常工作。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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