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一种碳化硅DSRD的堆叠式压接封装结构

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010301788.5
  • IPC分类号:H01L25/07;H01L23/31;H01L23/48;H01L23/367;H01L23/60
  • 申请日期:
    2020-04-16
  • 申请人:
    华中科技大学
著录项信息
专利名称一种碳化硅DSRD的堆叠式压接封装结构
申请号CN202010301788.5申请日期2020-04-16
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2020-07-28公开/公告号CN111463191A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L25/07IPC分类号H;0;1;L;2;5;/;0;7;;;H;0;1;L;2;3;/;3;1;;;H;0;1;L;2;3;/;4;8;;;H;0;1;L;2;3;/;3;6;7;;;H;0;1;L;2;3;/;6;0查看分类表>
申请人华中科技大学申请人地址
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华中科技大学当前权利人华中科技大学
发明人梁琳;杨英杰
代理机构华中科技大学专利中心代理人尹丽媛;李智
摘要
本发明属于器件封装领域,具体涉及一种碳化硅DSRD的堆叠式压接封装结构,包括:多个第一封装片,多个第二封装片,多个碳化硅DSRD芯片,正、负接线元件。每个芯片两侧分别叠放一层第一封装片构成封装子模块;每相邻两个封装子模块间通过第二封装片层叠构成堆叠式压接垂直结构;该垂直结构中每相邻两层间通过压力接触,实现每两个芯片间的首尾电气相连,正、负接线元件分别连接垂直结构正、负端。第一封装片用于避免在芯片工作中因材料间热失配产生热变形;第二封装片起到缓冲作用并用于实现芯片边缘电场的优化调制。本发明采用垂直堆叠压接形式,便于结构安装及失效器件替换,同时避免热形变问题,且实现电场调制,避免局部放电。

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