一种第三代半导体材料抛光系统

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201921719613.5
IPC分类号：B24B37/10;B24B53/017
申请日期：
2019-10-11
申请人：
上海致领半导体科技发展有限公司

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著录项信息

专利名称	一种第三代半导体材料抛光系统
申请号	CN201921719613.5	申请日期	2019-10-11
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B37/10 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B37/00 研磨机床或装置；附件（B24B 3/00优先） B24B37/04 适用于加工平面的〔1，2012.01〕 B24B37/07 以工件或研具的运动为特征〔2012.01〕 B24B37/10 用于单侧研磨〔2012.01〕	IPC分类号	B;2;4;B;3;7;/;1;0;;;B;2;4;B;5;3;/;0;1;7查看分类表>
申请人	上海致领半导体科技发展有限公司	申请人地址	上海市浦东新区创业路369弄1-68号20幢3层301室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海致领半导体科技发展有限公司	当前权利人	上海致领半导体科技发展有限公司
发明人	王永成
代理机构	上海互顺专利代理事务所（普通合伙）	代理人	韦志刚

摘要

本实用新型公开了一种第三代半导体材料抛光系统，其结构包括支柱、操作平台、抛光垫、废水收集区、抛光装置、连接管和高压水枪，本实用新型通过设置了第三代半导体材料抛光系统，第三代半导体材料，抛光时间长，连续4到6小时，中间不进行维护，抛光垫不进行维护，就会直接报废，新工艺压力盘，压住陶瓷盘，压力盘上设置真空吸附，加工过程中，压力盘吸住陶瓷盘，操作平台附近设置高压水枪，对准抛光垫清洗，使用便捷，保证抛光效果，提高工作效率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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