工业X射线系统成像方法和装置

发明专利有效专利

申请号：
CN202011495873.6
IPC分类号：G01N23/046
申请日期：
2020-12-17
申请人：
苏州斯玛维科技有限公司

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著录项信息

专利名称	工业X射线系统成像方法和装置
申请号	CN202011495873.6	申请日期	2020-12-17
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-04-13	公开/公告号	CN112649452A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N23/046 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/84 专用于特殊应用的系统〔3〕 G01N21/88 测试瑕疵、缺陷或污点的存在〔3〕 G01N21/95 特征在于待测物品的材料或形状（G01N 21/89至G01N 21/91，G01N 21/94优先）〔7〕 G01N23/046 应用X光断层技术，如计算机X光断层技术〔2018.01〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;3;/;0;4;6查看分类表>
申请人	苏州斯玛维科技有限公司	申请人地址	江苏省苏州市高新区科灵路78号5号楼101室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	苏州斯玛维科技有限公司	当前权利人	苏州斯玛维科技有限公司
发明人	丁赛赛;王康;左文琪
代理机构	苏州隆恒知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	金京

摘要

本申请公开了一种工业X射线系统成像方法和装置，涉及X射线系统成像技术领域，所述方法包括：加载工业X射线成像系统的物理参数和扫描参数；形成的精确光学路径，并计算给定角度下，射线源的边界与所有探测器单元边界的所处的射线方程；计算X射线光源与所有探测器单元在精确光学路径下与所有像素的相交体积权重，并用单位像素体积对相交权重做归一化处理，得到给定扫描位置所有像素的归一化权重函数；对原始扫描数据进行预校正处理；对预校正后的投影数据按水平通道方向进行卷积滤波处理，得到滤波后的投影数据；对滤波后的投影数据进行逐视角加权反投影操作，实现对被扫描物体的精确重建。解决了现有技术中重建图像的空间分辨率较差的问题。

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该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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