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密闭式样品处理装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202020553813.4
  • IPC分类号:G01N1/28;G01N1/34;G01N1/44
  • 申请日期:
    2020-04-14
  • 申请人:
    无锡科智达科技有限公司
著录项信息
专利名称密闭式样品处理装置
申请号CN202020553813.4申请日期2020-04-14
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N1/28IPC分类号G;0;1;N;1;/;2;8;;;G;0;1;N;1;/;3;4;;;G;0;1;N;1;/;4;4查看分类表>
申请人无锡科智达科技有限公司申请人地址
江苏省无锡市新吴区梅村街道梅育路117号2号厂房 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人无锡科智达科技有限公司当前权利人无锡科智达科技有限公司
发明人唐大运;郑典苏;刘梅;陈俊飞;邓永杰;李国平;郝效禹;万茂坤
代理机构无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)代理人曹祖良;涂三民
摘要
本实用新型涉及一种密闭式样品处理装置,它至少包括试剂腔壳、上盖、连通器与活塞筒;所述试剂腔壳具有轴向通孔,在试剂腔壳内设有试剂腔,试剂腔底部设有试剂腔底孔,在试剂腔壳上设有上盖,在上盖上设有取样孔和加样孔,在试剂腔壳内设有活塞筒,在活塞筒的下方设有连通器,在连通器的上开设有连通槽,在活塞筒上开设有连通孔,连通槽一端与活塞筒的内腔连通,另一端与连通孔相连,连通孔与试剂腔壳的试剂腔底孔在一个直径上,可通过旋转连通器选择性的连通活塞筒的内腔与试剂腔壳的试剂腔;所述试剂腔至少包括样品前处理腔、裂解液腔、磁珠腔、洗涤液腔、洗脱液腔与取液腔。本实用新型可以减少对环境的污染、降低有害物质对操作人员的危害。

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