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偏光膜的制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200510053760.X
IPC分类号：G02B5/30
申请日期：
2005-03-11
申请人：
力特光电科技股份有限公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	偏光膜的制造方法
申请号	CN200510053760.X	申请日期	2005-03-11
法律状态	撤回	申报国家	暂无
公开/公告日	2006-09-13	公开/公告号	CN1831571
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B5/30 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B5/00 除透镜外的光学元件（光波导入G02B 6/00；光学逻辑元件入G02F 3/00）〔4〕 G02B5/30 偏振元件（光调制器件入G02F 1/00）	IPC分类号	G;0;2;B;5;/;3;0查看分类表>
申请人	力特光电科技股份有限公司	申请人地址	台湾省桃园县平镇市平东路659巷37号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	力特光电科技股份有限公司	当前权利人	力特光电科技股份有限公司
发明人	罗义兴;陈俊雄;刘德厚;郑尧中;张良宝;赖大王;王伯萍;姚淑惠
代理机构	北京三幸商标专利事务所	代理人	刘激扬

摘要

本发明提供具有高偏光度与高透过率的偏光膜及其制造方法，以及使用该偏光膜而构成的偏光板、光学构件；所述偏光膜利用聚乙烯醇(PVA)系膜，将其经干式单轴多段延伸后，在水洗槽中进行膨润，并在含碘水溶液的染色交联槽中交联染色，再将该膜在含聚乙烯醇交联剂的延伸槽中进行后段延伸，而获得光透过率至少43％，偏光度至少98％的偏光膜。

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