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含有酸酐基的有机硅氧烷及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210556571.4
  • IPC分类号:C07F7/18;C07F7/08;C08G77/38;C08G77/46;C08L83/06;C08L83/12;C03C17/30
  • 申请日期:
    2012-12-20
  • 申请人:
    信越化学工业株式会社
著录项信息
专利名称含有酸酐基的有机硅氧烷及其制造方法
申请号CN201210556571.4申请日期2012-12-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-06-26公开/公告号CN103172655A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C07F7/18IPC分类号C;0;7;F;7;/;1;8;;;C;0;7;F;7;/;0;8;;;C;0;8;G;7;7;/;3;8;;;C;0;8;G;7;7;/;4;6;;;C;0;8;L;8;3;/;0;6;;;C;0;8;L;8;3;/;1;2;;;C;0;3;C;1;7;/;3;0查看分类表>
申请人信越化学工业株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人信越化学工业株式会社当前权利人信越化学工业株式会社
发明人雨宫正博;小野猪智郎
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人李英
摘要
有机硅氧烷,其由式[1a]表示,在分子内具有至少1个水解性甲硅烷基和至少1个酸酐基。(X表示具有酸酐基的一价烃基,Y表示具有聚醚基的一价烃基,Z表示具有水解性甲硅烷基的一价烃基,R1表示氢原子或者可被卤素原子取代的一价烃基。M1表示从上述X、Y、Z、R1中选择的基团。a、b、c、d分别表示0≤a≤100、0≤b≤100、0≤c≤100、0≤d≤100的整数。不过,a为0时,M1为X,c为1≤c≤100的整数,c为0时,M1为Z,a为1≤a≤100的整数。)本发明的有机硅氧烷在分子内具有水解性甲硅烷基、酸酐基,还根据需要具有聚醚基,能够自由地调整各官能团的数。

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