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一种连续高通量去除氟离子微流磁控器件

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201320158347.X
  • IPC分类号:B01D15/08
  • 申请日期:
    2013-04-01
  • 申请人:
    东华大学
著录项信息
专利名称一种连续高通量去除氟离子微流磁控器件
申请号CN201320158347.X申请日期2013-04-01
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01D15/08IPC分类号B;0;1;D;1;5;/;0;8查看分类表>
申请人东华大学申请人地址
上海市松江区松江新城人民北路2999号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东华大学当前权利人东华大学
发明人王刚;王宏志;赵德
代理机构上海泰能知识产权代理事务所代理人宋缨;孙健
摘要
本实用新型涉及一种连续高通量去除氟离子微流磁控器件,包括置有注射器的单通道微量注射泵、刻有微流控通道的树脂基微芯片,所述树脂基微芯片置于磁场环境中,所述注射器的输出端与流体输送通道的一端相连,流体输送通道的另一端与树脂基微芯片上的微流控通道的入口相连,所述微流控通道的出口与流体接收通道的一端相连,流体接收通道的另一端与流体接收器相连。本实用新型能够实现对F离子的连续、快速、高通量去除。

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