X射线摄影系统（双立柱）

外观设计专利有效专利

申请号：
CN201730425147.X
LOC分类号：24-01
申请日期：
2017-09-08
申请人：
深圳安科高技术股份有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	X射线摄影系统（双立柱）
申请号	CN201730425147.X	申请日期	2017-09-08
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	LOC分类号	24-01 查看分类表>
申请人	深圳安科高技术股份有限公司	申请人地址	广东省深圳市南山区蛇口沿山路26号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	深圳安科高技术股份有限公司	当前权利人	深圳安科高技术股份有限公司
发明人	谭亚林
代理机构	深圳市君胜知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	杨宏

摘要

1．本外观设计产品的名称：X射线摄影系统（双立柱）。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于对患者进行X射线摄影和诊断。3．本外观设计产品的设计要点：在于产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：组合状态图。5．省略视图：因为组件1右视图、组件2左视图及组件2右视图不涉及本外观设计的设计要点，故省略。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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