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泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710041582.8
  • IPC分类号:G02B6/02
  • 申请日期:
    2007-06-01
  • 申请人:
    中国科学院上海光学精密机械研究所
著录项信息
专利名称泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤
申请号CN200710041582.8申请日期2007-06-01
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2007-11-07公开/公告号CN101067671
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B6/02IPC分类号G;0;2;B;6;/;0;2查看分类表>
申请人中国科学院上海光学精密机械研究所申请人地址
上海市嘉定区汇源路55号8幢3层J665室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海中科神光光电产业有限公司当前权利人上海中科神光光电产业有限公司
发明人楼祺洪;李立波;周军;吴国华;董景星;魏运荣
代理机构上海新天专利代理有限公司代理人张泽纯
摘要
一种泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤,包括纤芯、内包层及外包层,其特征是在所述的纤芯和内包层之间还有中间层和泄漏层,所述的纤芯是掺镱石英玻璃,所述的纤芯、中间层、泄漏层、内包层和外包层的折射率分别为n1、n2、n3、n4、n5,且n5<n4<n2<n3=n1,所述的纤芯的半径为a,中间层的最大半径为b,1.5a<b<2a,n1通常在1.46~1.47之间,0.27%<Δ=(n1-n2)/n1<0.54%。本发明泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤可利用传统双包层光纤的拉制方法拉制,具有较大纤芯时,仍能保证高功率单模运行。

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