基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201510403821.4
IPC分类号：C23C24/04;B23K28/00
申请日期：
2015-07-08
申请人：
浙江大学

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专利名称	基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置
申请号	CN201510403821.4	申请日期	2015-07-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-09-30	公开/公告号	CN104947102A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C24/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C24/00 自无机粉末起始的镀覆（熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00；固渗入C23C8/00-C23C12/00 〔4，2006.01〕 C23C24/02 仅使用压力的〔4〕 C23C24/04 颗粒的冲击或动力沉积〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;2;4;/;0;4;;;B;2;3;K;2;8;/;0;0查看分类表>
申请人	浙江大学	申请人地址	浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	浙江大学	当前权利人	浙江大学
发明人	方攸同;何磊杰;梁斯庄;黄晓艳;马吉恩;张健;刘嘉斌;周晶
代理机构	杭州求是专利事务所有限公司	代理人	林超

摘要

本发明公开了一种基于等离子体磁场推进的金属粉末喷射装置。包括进料装置、永磁体、硅钢片、保护套和电极，进料装置中装有经过研磨的精细金属粉末并充满有用于产生等离子体的气体；进料装置的出口连接到由保护套所包围的喷射通道，位于喷射通道的两侧均设有电极，两侧的电极之间形成内部电场区域；永磁体夹于上下硅钢片之间，并包裹在保护套外，形成外部磁场区域，电极产生内部强电场，保护套位于由永磁体和硅钢片构成的外部磁场区域及电极产生的内部电场区域之间。本发明能快速、有效产生等离子体，并且由等离子体包裹着喷射出的金属粉末温度高、速度快、纯度高，可以广泛地应用于金属切割、非同种金属焊接、表面喷涂等领域。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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