加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种半导体器件结构及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110588352.3
  • IPC分类号:H01L23/552;H01L23/482;H01L23/24;H01L21/60
  • 申请日期:
    2021-05-27
  • 申请人:
    深圳市时代速信科技有限公司
著录项信息
专利名称一种半导体器件结构及其制造方法
申请号CN202110588352.3申请日期2021-05-27
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-09-17公开/公告号CN113410214A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/552IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;5;5;2;;;H;0;1;L;2;3;/;4;8;2;;;H;0;1;L;2;3;/;2;4;;;H;0;1;L;2;1;/;6;0查看分类表>
申请人深圳市时代速信科技有限公司申请人地址
广东省深圳市前海深港合作区前湾一路1号A栋201室(入驻深圳市前海商务秘书有限公司) 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳市时代速信科技有限公司当前权利人深圳市时代速信科技有限公司
发明人杨天应
代理机构广州三环专利商标代理有限公司代理人郭浩辉;颜希文
摘要
本发明公开了一种半导体器件结构及其制造方法,包括器件有源区,及位于无源区焊盘和半导体器件边缘之间的金属环路保护结构;所述金属环路保护结构包括设有若干断点的第二互连金属条;所述第二互连金属条位于无源区焊盘和半导体器件边缘之间的介质层刻蚀边界上方,覆盖所述介质层刻蚀边界;所述第二互连金属条在源极焊盘外侧区域与源极焊盘电学连接。本发明提供了一种半导体器件结构及其制造方法,能够提升器件防止水汽侵蚀和离子迁移导致短路的能力。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供