存储器器件

发明专利有效专利

申请号：
CN202010732541.9
IPC分类号：H01L27/1157;H01L27/11582;G11C16/04
申请日期：
2020-07-27
申请人：
铠侠股份有限公司

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著录项信息

专利名称	存储器器件
申请号	CN202010732541.9	申请日期	2020-07-27
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-03-19	公开/公告号	CN112530967A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L27/1157 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L27/00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件（其零部件入H01L 23/00，H01L 29/00至H01L 51/00；由多个单个固态器件组成的组装件入H01L 25/00）〔2，8〕 H01L27/02 包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的〔2〕 H01L27/04 其衬底为半导体的〔2〕 H01L27/10 在重复结构中包括有多个独立组件的〔2〕 H01L27/105 包含场效应组件的〔5〕 H01L27/112 只读存储器结构的〔5〕 H01L27/115 电动编程只读存储器；其多步骤制造方法〔5，2006.01，2017.01〕 H01L27/11563 具有电荷俘获栅极绝缘层的，例如，MNOS，NROM〔2017.01〕 H01L27/11568 以存储器核心区为特征的（三维布置H01L 27/11578）〔2017.01〕 H01L27/1157 具有单元选择晶体管的，例如，NAND〔2017.01〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;7;/;1;1;5;7;;;H;0;1;L;2;7;/;1;1;5;8;2;;;G;1;1;C;1;6;/;0;4查看分类表>
申请人	铠侠股份有限公司	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	铠侠股份有限公司	当前权利人	铠侠股份有限公司
发明人	小林茂樹;松田徹;石原英恵
代理机构	北京律盟知识产权代理有限责任公司	代理人	张世俊

摘要

实施方式提供一种能够提高特性的存储器器件。实施方式的存储器器件包含：积层体(200)，包含衬底(20)的上方的第1、第2及第3导电层(21A、21B、21C)、及积层在导电层(21C)的上方的第4导电层(23)；存储器柱(MP)，在区域(R1)内沿Z方向在积层体内(200)及导电层(21B、21C)内延伸，且包含有在Y方向上与导电层(21B)连接的半导体层(31)；存储单元(MC)，分别设置在导电层(23)与存储器柱(MP)之间；及绝缘体(60)，设置在与第1区域(R1)在Y方向上排列的第2区域(R2)内，且在积层体(200)及导电层(21B、21C)内沿Z方向延伸。区域(R2)内的导电层(21C)的Z方向的尺寸(D2)大于区域(R1)内的导电层(21C)的Z方向的第2尺寸(D1)。

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