包含镧系金属的聚杂硅氧烷组合物

发明专利无效专利

申请号：
CN201180066986.7
IPC分类号：C08G77/58
申请日期：
2011-12-22
申请人：
道康宁公司

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著录项信息

专利名称	包含镧系金属的聚杂硅氧烷组合物
申请号	CN201180066986.7	申请日期	2011-12-22
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2013-10-16	公开/公告号	CN103354823A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C08G77/58 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 C08G 用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物（发酵或使用酶的方法合成目标化合物或组合物或从外消旋混合物中分离旋光异构体入C12P）〔2〕 C08G77/00 在高分子主链中形成含硅键合，有或没有硫、氮、氧，或碳键合反应得到的高分子化合物〔2〕 C08G77/48 其中至少有两个，但不是所有的硅原子是与氧以外的原子键合（C08G 77/42优先）〔2〕 C08G77/58 含金属键合〔2〕	IPC分类号	C;0;8;G;7;7;/;5;8查看分类表>
申请人	道康宁公司	申请人地址	美国密歇根州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	道康宁公司	当前权利人	道康宁公司
发明人	大卫·德沙泽尔;马丁·格拉斯曼;刘立志;刘南国;E·麦克奎斯顿;S·K·米利;R·施密特
代理机构	北京安信方达知识产权代理有限公司	代理人	武晶晶;郑霞

摘要

本发明公开了一种聚杂硅氧烷组合物，所述组合物包含(A)第一金属(M1)、(B)第二金属(M2)和(C)具有式(R13SiO1/2)、(R12SiO2/2)、(R1SiO3/2)和/或(SiO4/2)的甲硅烷氧基单元。R1独立地为包含1至30个碳原子的烃基或卤代烃基。(A)、(B)和(C)相对于彼此的摩尔分数由式[(M1)]a[(M2)]b[R13SiO1/2]m[R12SiO2/2]d[R1SiO3/2]t[SiO4/2]q表示，其中a和b各自独立地为0.001至0.9，m、d、t和q中的每一个独立地为0至0.9，前提条件是m、d、t和q不都为0，并且a+b+m+d+t+q的和≈1。(M1)和(M2)中的至少一者为镧系金属。所述组合物具有至少0.05%的量子产率，并用包括使(A’)金属(M3)醇盐、(B’)任选的可水解金属(M4)盐、(C’)含硅材料和(D)水反应的方法形成。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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