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薄膜晶体管器件以及薄膜晶体管器件的制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201280002085.6
  • IPC分类号:H01L29/786;H01L21/20;H01L21/205;H01L21/336
  • 申请日期:
    2012-02-06
  • 申请人:
    松下电器产业株式会社;松下液晶显示器株式会社
著录项信息
专利名称薄膜晶体管器件以及薄膜晶体管器件的制造方法
申请号CN201280002085.6申请日期2012-02-06
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2013-04-03公开/公告号CN103026492A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/786
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;6;;;H;0;1;L;2;1;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;2;0;5;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人松下电器产业株式会社;松下液晶显示器株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社日本有机雷特显示器,松下液晶显示器株式会社当前权利人株式会社日本有机雷特显示器,松下液晶显示器株式会社
发明人钟之江有宣;川岛孝启;林宏;河内玄士朗
代理机构北京市中咨律师事务所代理人徐健;段承恩
摘要
本发明提供一种能抑制突增现象、且具有优异的TFT特性的薄膜晶体管器件及其制造方法。薄膜晶体管器件具备:栅电极(2),其形成于基板(1)上;栅极绝缘膜(3),其形成于栅电极(2)上;结晶硅薄膜(4),其形成于栅极绝缘膜(3)上;第1半导体膜(5),其形成于结晶硅薄膜(4)上;一对第2半导体膜(6),其形成于第1半导体膜(5)上;源电极(8S),其形成于一对第2半导体膜(6)的一方的上方;以及漏电极(8D),其形成于一对第2半导体膜(6)的另一方的上方,将结晶硅薄膜(4)和第1半导体膜(5)的导带下端的能级分别设为ECP、EC1,则ECP

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