用于半导体处理的气体注射系统

发明专利无效专利

申请号：
CN96197800.7
IPC分类号：--
申请日期：
1996-10-18
申请人：
沃特金斯·约翰逊公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于半导体处理的气体注射系统
申请号	CN96197800.7	申请日期	1996-10-18
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	1998-12-02	公开/公告号	CN1200773
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	沃特金斯·约翰逊公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	应用材料公司	当前权利人	应用材料公司
发明人	莉迪亚·J·扬;理查德·H·马西森;西蒙·塞利斯特;罗恩·范奥斯
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	陶凤波

摘要

一种用于向一半导体处理室(12)中注射气态物质的系统(10)。注射系统(10)包括至少一个形成于封闭空间主体(52)内的封闭空间(42)和多个喷嘴(34)，它们和每个封闭空间相连接，用于从封闭空间(42)向室(12)注射气态物质。一管道结构沿着一迂回通道从封闭空间(42)向喷嘴(34)输送气态物质。喷嘴(34)被定位和构造成在晶片(22)整个表面上提供均匀的气体物质分布。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供