加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

显示装置及显示装置的制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110068168.6
  • IPC分类号:H01L27/12;H01L21/77
  • 申请日期:
    2021-01-19
  • 申请人:
    TCL华星光电技术有限公司
著录项信息
专利名称显示装置及显示装置的制备方法
申请号CN202110068168.6申请日期2021-01-19
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-04-30公开/公告号CN112736097A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/12IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;7;7查看分类表>
申请人TCL华星光电技术有限公司申请人地址
广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人TCL华星光电技术有限公司当前权利人TCL华星光电技术有限公司
发明人翟玉浩
代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司代理人远明
摘要
本发明公开了一种显示装置及显示装置的制备方法,所述显示装置包括:衬底基板;栅极,设置于所述衬底基板上;栅极绝缘层,设置于所述衬底基板上且包覆所述栅极;半导体层,设置于所述栅极绝缘层上;源极和漏极,设置于所述栅极绝缘层上且分别位于所述半导体层的两端;其中,所述源极和所述漏极在所述衬底基板上的正投影与所述栅极在所述衬底基板上的正投影之间互不重叠。本发明通过使得所述源极和所述漏极的正投影与所述栅极的正投影之间互不重叠,避免了光线向所述半导体层照射时被所述栅极、所述源极或者所述漏极遮挡,从而扩大了所述半导体层的感光面积,提高了所述显示装置对光的敏感性和响应速度,提升产品质量。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供