荧光材料印刷用掩模版以及荧光材料的填充供给方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200410091296.9
IPC分类号：--
申请日期：
2004-12-01
申请人：
东海商事株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	荧光材料印刷用掩模版以及荧光材料的填充供给方法
申请号	CN200410091296.9	申请日期	2004-12-01
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2005-06-22	公开/公告号	CN1630006
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	东海商事株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东海商事株式会社	当前权利人	东海商事株式会社
发明人	小林大介;山田泰宏
代理机构	北京银龙知识产权代理有限公司	代理人	张敬强

摘要

本发明涉及等离子体显示器荧光材料印刷用掩模版以及使用该版的荧光材料的填充供给方法。利用感光曝光材料制的开口形成部件在形成于金属板制的版主体上的开口部分形成更精密的开口，对等离子体显示器装置中的玻璃基板上的填充收放槽部内能够用刮板涂敷供给填充所定的荧光材料，通过反复剥离再生来降低工作成本，防止金属掩模版特有的渗润使得管理·使用变得容易。在形成于金属板主体上的金属图案开口上具备利用涂敷形成于金属板主体上并凝固的感光乳剂而位于金属图案开口内、不比上述填充收放槽部的开口面积更大的而口形成的填充图案开口。另外，以突出状形成与用刮板涂敷未填充供给荧光材料R、G、B的其它填充收放槽部的阻挡壁接触的隔离部。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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