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六氟化硫密度控制器

实用新型无效专利
  • 申请号:
    CN200920014937.9
  • IPC分类号:G05D21/00
  • 申请日期:
    2009-06-29
  • 申请人:
    王世有
著录项信息
专利名称六氟化硫密度控制器
申请号CN200920014937.9申请日期2009-06-29
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G05D21/00IPC分类号G05D21/00查看分类表>
申请人王世有申请人地址
辽宁省大连市金州区拥政街三里642号(金州仪器仪*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人王世有当前权利人王世有
发明人王世有
代理机构大连非凡专利事务所代理人闪红霞
摘要
本实用新型公开一种六氟化硫密度控制器,有壳体(1)及进气口(2),在所述壳体(1)内设有与进气口(2)相通的C型波纹管(3),与C型波纹管(3)相接有环境温度补偿拉杆(4),环境温度补偿拉杆(4)驱动机芯(5),与机芯(5)相接有置于仪表盘(6)上的指针(7)。具有结构简单、体积小、安装方便、显示及上传信号之间误差小等优点。

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