涂敷和显影系统

发明专利无效专利

申请号：
CN01122639.0
IPC分类号：--
申请日期：
2001-05-10
申请人：
东京毅力科创株式会社

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权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	涂敷和显影系统
申请号	CN01122639.0	申请日期	2001-05-10
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2001-12-05	公开/公告号	CN1325130
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	东京毅力科创株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京毅力科创株式会社	当前权利人	东京毅力科创株式会社
发明人	松山雄二;北野淳一;北野高广
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	杨松龄

摘要

本发明的涂敷和显影系统具有处理区，该处理区有用于在基片上形成涂层薄膜的涂敷单元、用于显影基片的显影单元、用于对基片进行热处理的热处理单元、用于将基片从涂敷单元、显影单元和热处理单元传送或传送到这些单元的第一传送装置，该系统还有一接口部分，在该接口部分中基片至少沿上述处理区和该系统外侧的对基片进行曝光处理的曝光单元之间的路径传送，该系统还有用于容纳上述处理区和接口部分的壳体，用于给上述接口部分供应惰性气体的供气装置，以及排出上述接口部分内的气氛的排气部分，和所述的热处理单元，和用于将基片在该热处理单元和曝光处理单元之间的路径上传送的、位于上述接口部分内的第二传送装置。根据本发明，可以防止分子水平的杂质比如氧气、碱性物质、臭氧和有机物质附着到基片上，从而适于对基片进行处理和加工。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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