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沟槽电容动态随机存取存储器元件及其制作方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200610077721.8
  • IPC分类号:H01L21/8242;H01L27/108
  • 申请日期:
    2006-04-24
  • 申请人:
    联华电子股份有限公司
著录项信息
专利名称沟槽电容动态随机存取存储器元件及其制作方法
申请号CN200610077721.8申请日期2006-04-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2007-10-31公开/公告号CN101064282
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/8242
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;2;4;2;;;H;0;1;L;2;7;/;1;0;8查看分类表>
申请人联华电子股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹科学工业园区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人联华电子股份有限公司当前权利人联华电子股份有限公司
发明人林永昌;简山杰;郭建利;李瑞池
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陶凤波;侯宇
摘要
一种沟槽电容结构,包括一半导体基底;一电容深沟槽,形成于该半导体基底中;一领氧化层,设于该电容深沟槽的内壁上,其中该领氧化层于该电容深沟槽底部具有一开口,暴露出该电容深沟槽底部;一第一掺杂多晶硅层,设于该领氧化层及该电容深沟槽底部上;一电容介电层,设于该第一掺杂多晶硅层上;一第二掺杂多晶硅层,设于该电容介电层上,且该第二掺杂多晶硅层填满该电容深沟槽;一深离子井,通过该电容深沟槽底部与该第一掺杂多晶硅层电连接;及一栅极绝缘层,设于该第二掺杂多晶硅层及该浅沟绝缘结构上。

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