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使用接触容积的有效的温度控制方法和装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200480027550.7
  • IPC分类号:H05K7/20
  • 申请日期:
    2004-09-20
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称使用接触容积的有效的温度控制方法和装置
申请号CN200480027550.7申请日期2004-09-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2006-11-01公开/公告号CN1857044
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H05K7/20IPC分类号H;0;5;K;7;/;2;0查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人P·莫罗兹;T·哈莫林
代理机构北京东方亿思知识产权代理有限责任公司代理人李瑞海
摘要
一种用于支撑基底的基底支持器,包括外支撑表面,冷却部件,位置与支撑表面相邻并且在支撑表面和冷却部件之间的加热部件,以及位于加热部件和冷却部件之间,并且由第一内表面和第二内表面形成的接触容积。当给接触容积提供流体的时候,加热部件和冷却部件之间的导热性增大。

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