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墨水配方、光电器件及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910528073.0
  • IPC分类号:C09D11/30;C09D11/38;C09D11/36;H01L51/50;H01L51/56;H01L51/54
  • 申请日期:
    2019-06-18
  • 申请人:
    纳晶科技股份有限公司
著录项信息
专利名称墨水配方、光电器件及其制备方法
申请号CN201910528073.0申请日期2019-06-18
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-12-18公开/公告号CN112094535A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C09D11/30IPC分类号C;0;9;D;1;1;/;3;0;;;C;0;9;D;1;1;/;3;8;;;C;0;9;D;1;1;/;3;6;;;H;0;1;L;5;1;/;5;0;;;H;0;1;L;5;1;/;5;6;;;H;0;1;L;5;1;/;5;4查看分类表>
申请人纳晶科技股份有限公司申请人地址
浙江省杭州市滨江区长河街道秋溢路428号3幢3楼 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人纳晶科技股份有限公司当前权利人纳晶科技股份有限公司
发明人彭军军;郭海涛;蒋安宁;李在良;胡兵
代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司代理人路秀丽
摘要
本发明提供了一种墨水配方、光电器件及其制备方法。该墨水配方包括:第一溶剂、第二溶剂以及功能材料,第一溶剂选自通式为CnH2n‑8且9≤n<15或为CnH2n‑6且8≤n<15的含苯环结构的烃类溶剂,第二溶剂选自通式为CnH2n‑8或为CnH2n‑6,15≤n≤22的含苯环结构的烃类溶剂,功能材料在第一溶剂中的溶解度大于在第二溶剂中的溶解度。选择上述通式结构和溶解特性的两种溶剂,使得该墨水配方打印到基板上制备成膜层时,在室温或低压或加热状态下进行干燥的过程中,沸点相对较低的第一溶剂先开始慢慢挥发,随着挥发的进行其在第二溶剂和残余第一溶剂中的流动性变差,进而逐渐析出形成均匀的膜层。

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