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一种磁控摆动等离子电弧熔宽的调节控制方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110028030.3
  • IPC分类号:B23K10/02
  • 申请日期:
    2021-01-11
  • 申请人:
    湘潭大学
著录项信息
专利名称一种磁控摆动等离子电弧熔宽的调节控制方法
申请号CN202110028030.3申请日期2021-01-11
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-04-13公开/公告号CN112643180A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B23K10/02IPC分类号B;2;3;K;1;0;/;0;2查看分类表>
申请人湘潭大学申请人地址
湖南省湘潭市雨湖区羊牯塘27号湘潭大学 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人湘潭大学当前权利人湘潭大学
发明人洪波;肖郭城;黄维;文志;黄秀培
代理机构暂无代理人暂无
摘要
一种磁控摆动等离子弧熔宽的调节控制方法,将等离子弧焊与磁控摆动电弧两种技术融合,发明了一种利用可调励磁线圈匝数装置控制励磁线圈匝数的增加或减少来达到熔宽精确调节的控制方法。其技术方案要点是:通过一系列的方式获得焊缝熔宽的宽窄信息后,经由传感器接受信号,并对可调励磁线圈装置通电去实现熔宽宽或窄时的励磁线圈匝数的改变,进而通过电流传感器观察励磁电流的变化,最后由执行机构通过对等离子弧摆幅的调整达到对熔宽的精确调节。

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