一种微小间隙电弧观测方法及装置

发明专利有效专利

申请号：
CN202110817699.0
IPC分类号：G01R31/12
申请日期：
2021-07-20
申请人：
华中科技大学;国网上海市电力公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种微小间隙电弧观测方法及装置
申请号	CN202110817699.0	申请日期	2021-07-20
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-09-17	公开/公告号	CN113406457A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01R31/12 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01R 测量电变量；测量磁变量（指示谐振电路的正确调谐入H03J 3/12） G01R31/00 电性能的测试装置；电故障的探测装置；以所进行的测试在其他位置未提供为特征的电测试装置（在制造过程中测试或测量半导体或固体器件入H01L 21/66；线路传输系统的测试入H04B 3/46） G01R31/12 测试介电强度或击穿电压	IPC分类号	G;0;1;R;3;1;/;1;2查看分类表>
申请人	华中科技大学;国网上海市电力公司	申请人地址	湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	华中科技大学,国网上海市电力公司	当前权利人	华中科技大学,国网上海市电力公司
发明人	李化;张国豪;林福昌;李征;王哲豪;王雨橙;邱天;黄子钦;李浩波;梁伟朋
代理机构	华中科技大学专利中心	代理人	李智

摘要

本发明公开了一种微小间隙电弧观测方法及装置，属于高压测量领域。该观测方法为：向金属化膜施加压强，排出金属化膜之间的空气；向金属化膜施加击穿电压，金属化膜部分区域重叠，所述重叠部分在电压作用下发生击穿形成击穿区域产生电弧；产生的电弧所发射的光经反射成像，拍摄金属化膜击穿过程中电弧形貌变化的发展过程。观测装置包括击穿试验平台及测量系统。通过本发明的观测装置，能够观测到微米级厚金属化薄膜击穿过程中电弧形貌变化的发展过程，便于研究自愈过程中电弧的发展机理，并可以拓展到其他微米级间隙放电观测领域；另外，本发明观测装置结构简单、可操作性强。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供