光源投影装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201710984017.9
IPC分类号：G03B21/20
申请日期：
2017-10-20
申请人：
深圳奥比中光科技有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光源投影装置
申请号	CN201710984017.9	申请日期	2017-10-20
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2018-02-27	公开/公告号	CN107741682A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03B21/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03B 摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件（这些装置的光学部分入G02B；照相用的感光材料或加工方法入G03C；加工曝光后的照相材料的设备入G03D）〔4〕 G03B21/00 放映机或放映式看片机；有关附件（换片装置入G03B23/00） G03B21/14 零部件 G03B21/20 灯泡箱	IPC分类号	G;0;3;B;2;1;/;2;0查看分类表>
申请人	深圳奥比中光科技有限公司	申请人地址	广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	奥比中光科技集团股份有限公司	当前权利人	奥比中光科技集团股份有限公司
发明人	张丁军;许星;王兆民
代理机构	深圳新创友知识产权代理有限公司	代理人	江耀纯

摘要

本发明提供一种光源投影装置，包括：光源，用于发射发散光束；透镜系统，用于准直及扩束所述发散光束并发射出准直光束；衍射光学元件，接收所述准直光束并发射出结构光图案化光束；所述准直光束的截面尺寸大于所述发散光束入射到所述透镜系统的表面上形成的入射光斑的尺寸；所述准直光束具有不同的出射方向。通过合理设置了投影系统的结构，能够对光源发出的光束进行准直及扩束后发射出准直光束，而不是简单的聚焦，从而提高了投影的质量。

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