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埋入式字线的结构

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710126267.5
  • IPC分类号:H01L23/522
  • 申请日期:
    2007-06-26
  • 申请人:
    南亚科技股份有限公司
著录项信息
专利名称埋入式字线的结构
申请号CN200710126267.5申请日期2007-06-26
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2008-12-31公开/公告号CN101335254
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/522IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;5;2;2查看分类表>
申请人南亚科技股份有限公司申请人地址
中国台湾桃园县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人南亚科技股份有限公司当前权利人南亚科技股份有限公司
发明人李宗翰;郑志浩;李中元
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陶凤波
摘要
本发明公开一种埋入式字线的结构,其包括具有U形槽的半导体基底,U形栅极介电层于U形槽中、位于U形栅极介电层上的多晶硅层、位于多晶硅层之上的导电层、覆盖于导电层上的介电盖层、以及一对内部侧壁子,分别位于多晶硅层上方,并介于半导体基底与导电层之间。此种埋入式字线的结构具有小的尺寸,藉以形成凹入式沟道时,可增进半导体元件的集成度,而不致产生短沟道效应。

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