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一种免支撑光敏3D打印机

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201921485362.9
  • IPC分类号:B29C64/124;B29C64/20;B33Y30/00
  • 申请日期:
    2019-09-05
  • 申请人:
    上海梓域材料科技有限公司
著录项信息
专利名称一种免支撑光敏3D打印机
申请号CN201921485362.9申请日期2019-09-05
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B29C64/124IPC分类号B;2;9;C;6;4;/;1;2;4;;;B;2;9;C;6;4;/;2;0;;;B;3;3;Y;3;0;/;0;0查看分类表>
申请人上海梓域材料科技有限公司申请人地址
上海市闵行区光华路598号2幢CA4028室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海梓域材料科技有限公司当前权利人上海梓域材料科技有限公司
发明人杨清
代理机构北京细软智谷知识产权代理有限责任公司代理人暂无
摘要
本实用新型公开了一种免支撑光敏3D打印机,包括平台组件,平台组件包括第一平台、料筒管和设置在料筒管内的第二平台,第一平台上设有嵌口,料筒管的上端嵌于嵌口内,第二平台能够在料筒管内沿竖直方向移动;原料盒,用于盛放光敏材料,原料盒的下端设有开口,开口的边缘与第一平台的上表面密封接触,原料盒能够相对于第一平台移动、且移动位置包括位于第二平台的上方的第一位置和位于第一平台的上表面的第二位置;均设置在第二平台的上方的挥发干燥装置和光源系统。如此设置,挥发干燥装置使光敏材料形成可溶解的半固体膜层,为后续膜层的涂布提供支撑,避免了添加支撑部的过程,半固体膜层溶解后还能再利用,避免了材料浪费。

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