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一种用于薄壁平面工件固定的真空吸附装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201010566830.2
  • IPC分类号:B23Q3/06
  • 申请日期:
    2010-11-30
  • 申请人:
    中国科学院大连化学物理研究所
著录项信息
专利名称一种用于薄壁平面工件固定的真空吸附装置
申请号CN201010566830.2申请日期2010-11-30
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2012-05-30公开/公告号CN102476300A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B23Q3/06IPC分类号B;2;3;Q;3;/;0;6查看分类表>
申请人中国科学院大连化学物理研究所申请人地址
辽宁省大连市中山路457号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院大连化学物理研究所当前权利人中国科学院大连化学物理研究所
发明人张华民;马海鹏;刘波
代理机构沈阳科苑专利商标代理有限公司代理人马驰
摘要
本发明公开了一种用于薄壁平面工件固定的真空吸附装置,包括真空吸附板和密封盖板。真空吸附板的上表面设有贯穿真空吸附板的n个吸气孔,下表面开设有m条互不连通的真空凹槽,每条真空凹槽既与若干吸气孔相连通,也与抽真空系统的吸气管相连通。每条真空凹槽周边均开设有互不连通的环绕真空凹槽的环形密封槽,内置密封材料,与密封盖板一起,将真空吸附板的上表面形成了m个互不连通的真空吸附区域。结合吸气孔孔塞的使用,可以解决真空吸附装置工作过程中个别吸气孔出现突发密封问题所导致工件吸附失效问题,工件本体具有贯穿孔的真空吸附问题及在真空吸附固定方式下,工件内部的切割操作等问题。

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