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一种用于生产电阻片的曝光机

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202021072271.5
  • IPC分类号:H01C17/075
  • 申请日期:
    2020-06-12
  • 申请人:
    武汉奇克微电子技术有限公司
著录项信息
专利名称一种用于生产电阻片的曝光机
申请号CN202021072271.5申请日期2020-06-12
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01C17/075IPC分类号H;0;1;C;1;7;/;0;7;5查看分类表>
申请人武汉奇克微电子技术有限公司申请人地址
湖北省武汉市洪山区东湖开发区卓刀泉15号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人武汉奇克微电子技术有限公司当前权利人武汉奇克微电子技术有限公司
发明人白华
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型属于曝光机技术领域,且公开了一种用于生产电阻片的曝光机,包括曝光机本体和密封门,所述曝光机本体的右侧开设有检修口,所述检修口内壁的前侧和后侧均开设有方形定位槽,所述检修口的内部与密封门的外表面插接,所述密封门的左右两侧均开设有方形凹槽,两个方形凹槽的内部均固定安装有定位机构。该实用新型,通过设置曝光机本体、密封门、检修口、方形定位槽、方形凹槽、定位机构、定位块、定位杆、圆形块、方形挡块、方形定位块、连接块、推进块、挤压弹簧、圆形通孔、方形通孔和提拉手柄的配合使用,解决了现有因打开的过程麻烦,造成检修过程麻烦的问题,该用于生产电阻片的曝光机,具备快速检修的优点。

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