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一种保持硅晶片干燥的光刻机

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202021382119.7
  • IPC分类号:G03F7/20;F26B3/30;F26B23/04
  • 申请日期:
    2020-07-13
  • 申请人:
    福建安芯半导体科技有限公司
著录项信息
专利名称一种保持硅晶片干燥的光刻机
申请号CN202021382119.7申请日期2020-07-13
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;F;2;6;B;3;/;3;0;;;F;2;6;B;2;3;/;0;4查看分类表>
申请人福建安芯半导体科技有限公司申请人地址
福建省泉州市南安市石井镇院前村2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人福建安芯半导体科技有限公司当前权利人福建安芯半导体科技有限公司
发明人李俊毅
代理机构泉州市兴博知识产权代理事务所(普通合伙)代理人暂无
摘要
本实用新型涉及光刻机设备领域,尤其涉及一种保持硅晶片干燥的光刻机。本实用新型要解决的技术问题是提供一种能够持续对光刻机内部工作台周围进行干燥避免硅片存在水汽而影响光刻效果的光刻机。一种保持硅晶片干燥的光刻机,包括有整体外壳、工件传输装置、激光光路设备、掩模台、掩模板、投影物镜、控制台和芯片;工件传输装置固接于整体外壳外壁;掩模传输设备固接于整体外壳内侧壁;激光光路设备固接于整体外壳;掩模台固接于激光光路设备底部;掩模板夹于激光光路设备与掩模台之间;投影物镜固接于掩模台底部。本实用新型达到了能够持续对光刻机内部工作台周围进行干燥避免硅片存在水汽而影响光刻效果的作用。

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