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专利名称 | 表面处理的方法及其设备 |
申请号 | CN87104781 | 申请日期 | 1987-07-07 |
法律状态 | 实质审查 | 申报国家 | 中国 |
公开/公告日 | 1988-01-27 | 公开/公告号 | CN87104781 |
优先权 | 暂无 | 优先权号 | 暂无 |
主分类号 | 暂无 | IPC分类号 | 暂无查看分类表>
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申请人 | 株式会社豐田中央研究所 | 申请人地址 | 日本爱知县
变更
专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效 |
权利人 | 株式会社豐田中央研究所 | 当前权利人 | 株式会社豐田中央研究所 |
发明人 | 新井透;远藤淳二;武田裕正 |
代理机构 | 上海专利事务所 | 代理人 | 王丽川 |
摘要
一种在被处理物质表面上形成—碳化物、氮化物、碳氮化物或固体溶液的表面涂层的方法,包括把由一种高熔点材料的粉末和一种用以形成一种碳化物、氮化物、碳氮化物或固体溶液的金属粉末或一种它们的合金粉末组成的一种处理剂装入一个流化床炉子,把流化气导入流化床炉子以流化处理剂并形成一流化层,把被处理材料装入流化层并且把预定量的卤化物导入流化层;以及用来在被处理材料上形成一表面涂层的一种设备,包括一个用来在处理剂的流化层中形成表面涂层的设备。
1.一种在被处理材料上生成一表面层的方法,该方法包括:在一个流化床炉子中装入一种包含一高熔点材料粉末和一用以生成碳化物、氮化物、碳氮化物或固体溶液的一种金属粉末或一种它们的合金粉末的处理剂,把流化气导入所说的流化床炉子以流化所说的处理剂并形成一流化层,把所说的被处理材料装入所说的流化层,以及把预定量的卤化物导入所说的流化层,这样在加热条件下在所说的被处理材料表面上生成一层所说的金属的碳化物、氮化物、碳氮化物或固体溶液层。
2.根据权利要求1所说的一种方法,其特征在于所说的卤化物包含至少一个选自卤化铵、金属卤化物和碱金属或碱土金属卤化物的一个组分,所说的卤化物的量为所说处理剂的约0.05至20%(重量)。
3.根据权利要求1所说的一种方法,其特征在于所说的粉末或所说的合金粉末的量是所说处理剂的1至50%(重量)。
4.根据权利要求1所说的一种方法,其特征在于所说的流态化气体是氮气、含氮气体或所说的氮气或含氮气体与氩气的混合气体,这样在所说的被处理材料表面上形成氮化物或碳氮化物涂层。
5.根据权利要求1所说的一种方法,其特征在于所说的流化气体是一种惰性气体,这样在所说的被处理材料表面上生成碳化物涂层或固体溶液层。
6.根据权利要求1所说的一种方法,其特征在于所说的加热要达到400℃至1200℃温度。
7.根据权利要求1所说的一种方法,其特征在于所说的处理剂包含所说的高熔点材料和用以生成一种碳化物或一种碳氮化物涂层的所说的金属或合金粉末,以及所说的被处理材料是一种含碳、烧结碳化物和主要由石墨组成的碳质材料的金属材料,这样在所说的被处理材料表面上形成碳化物或碳氮化物涂层。
8.根据权利要求7所说的一种方法,其特征在于所说的被处理材料是一种含碳的铁、镍、钴。
9.根据权利要求1所说的一种方法,其特征在于所说的处理剂包含所说的高熔点材料粉末和所说的用以形成一种氮化物的金属或合金粉末,以及所说的被处理材料是一种金属材料或一种非金属材料,这样在所说的被处理材料表面上生成一层氮化物涂层。
10.根据权利要求9所说的一种方法,其特征在于所说的被处理材料是一种铁、镍、钴和烧结陶瓷。
11.根据权利要求1所说的一种方法,其特征在于所说的处理剂含有所说的高熔点材料粉末和所说的用以形成固体溶液的金属或合金粉末,以及所说的被处理材料是不含碳的金属材料,这样在所说的被处理材料表面上生成固体溶液层。
12.根据权利要求11所说的一种方法,其特征在于所说的被处理材料是一种不含碳的铁和不锈钢。
13.根据权利要求1所说的一种方法,其特征在于所说的处理剂含有所说的高熔点材料粉末和所说的用以形成一种碳化物、氮化物或碳氮化物的金属或合金粉末,以及所说的被处理材料是一种经过氮化处理的金属材料,这样在所说的被处理材料表面上形成碳化物、氮化物或碳氮化物涂层。
14.用来在一种被处理材料上生成一表面层的一种设备,包括一个用来在一种由一种高熔点材料粉末和一种用以形成一种碳化物、氮化物、碳氮化物或固体溶液的金属粉末或它们的一种合金粉组成的处理剂的流化层中形成所说的表面层的炉体,一个用来加热所说的流化层的加热炉,一根与所说的炉体外部相连的卤化物供给管,以及安装在所说炉体内的一根卤化物气体喷射管,所说的卤化物气体喷射管与所说的卤化物供给管相连并有多个开口在所说的流化层中的小孔。
15.根据权利要求14所说的一种设备,其特征在于,在一个与流化气气流垂直的平面上,所说的卤化物气体喷射管与卤化物供给管的总截面积的比例不大于流化层垂直截面积的1/3。
引用专利(该专利引用了哪些专利)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 | 该专利没有引用任何外部专利数据! |
被引用专利(该专利被哪些专利引用)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 | 1 | | 2006-07-20 | 2006-07-20 | | |
2 | | 2011-02-22 | 2011-02-22 | | |
3 | | 2011-02-22 | 2011-02-22 | | |