料架可旋转立式真空高压气淬炉

专利类型:
发明专利(1)
专利有效性:
无效专利(1)
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公开(公告)时间
申请时间

料架可旋转立式真空高压气淬炉

发明专利无效专利
  • 申请号:CN200810012387.7
  • 申请人:沈阳恒进真空科技有限公司
  • 申请日:2008-07-18
  • 主分类号:C21D1/62
  • 公开(公告)日:2008-12-10
  • 公开/公告号:CN101319272
申请同类专利

摘要:料架可旋转的立式真空高压气淬炉,为立式下开门、底装料式真空炉,包括以工控机及PLC为主的控制系统,其特征是下炉门内侧内圆设旋转平台支座,支座上同轴安装旋转圆盘、料架,旋转圆盘下部同轴安装大齿轮,偏心设置的旋转驱动机构上的小齿轮与大齿轮周啮合,驱动旋转圆盘转动,使承载工件的料架可以绕垂直中心轴旋转;料架根部设较厚隔热层,加热室下屏保温层为环形、两者之间有环台形间隙;转盘及其上的隔热层、料架,以及旋转驱动机构都随炉门一同升降;真空炉采用PLC技术控制,作业时的开门装料、抽空、加热、料架旋转、充气冷却动作是连锁控制的,能够保证各部位的工件受热均匀一致,在真空、正压、动密封、保温、冷却等性能都得到了较好的保证。

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