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一种黑硅MSM结构光电探测器及其制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201010249481.1
  • IPC分类号:H01L31/101;H01L31/0248;H01L31/18
  • 申请日期:
    2010-08-10
  • 申请人:
    电子科技大学
著录项信息
专利名称一种黑硅MSM结构光电探测器及其制备方法
申请号CN201010249481.1申请日期2010-08-10
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2011-02-09公开/公告号CN101969080A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/101IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;0;1;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;4;8;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人电子科技大学申请人地址
四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人电子科技大学当前权利人电子科技大学
发明人蒋亚东;赵国栋;吴志明;李伟;姜晶;张安元;郭正宇
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明公开了一种黑硅MSM光电探测器,包括单晶硅衬底,其特征在于,在所述单晶硅衬底表面设置有作为光敏区的黑硅薄膜层,在所述黑硅薄膜层设有叉指电极,叉指电极下方设有势垒层,在没有设置叉指电极的区域设置有钝化层。该器件具有宽的光谱响应范围和较高的响应度,可以用以对紫外、可见或者近红外光探测。

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