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蚀刻液再生装置及蚀刻液再生方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010355366.6
  • IPC分类号:C23F1/46;C23F1/08
  • 申请日期:
    2020-04-29
  • 申请人:
    TCL华星光电技术有限公司
著录项信息
专利名称蚀刻液再生装置及蚀刻液再生方法
申请号CN202010355366.6申请日期2020-04-29
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-07-10公开/公告号CN111394730A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23F1/46IPC分类号C;2;3;F;1;/;4;6;;;C;2;3;F;1;/;0;8查看分类表>
申请人TCL华星光电技术有限公司申请人地址
广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人TCL华星光电技术有限公司当前权利人TCL华星光电技术有限公司
发明人何毅烽
代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司代理人张晓薇
摘要
本申请提出了一种蚀刻液再生装置及蚀刻液再生方法。该蚀刻液再生装置包括:第一存储容器、第二存储容器、第三存储容器、第四存储容器、及位于第一存储容器和第四存储容器之间的再生容器其中,第一存储容器用于存储蚀刻废液,第二存储容器用于存储解吸液,第三存储容器用于存储解吸废液,第四存储容器用于存储再生的蚀刻液,再生容器用于蚀刻废液的再生。第一存储容器、第二存储容器、第三存储容器、第四存储容器通过管道与再生容器选择性相连通。本申请通过再生容器的设置,吸附蚀刻废液中的铜离子,实现了蚀刻液的再生,提高了蚀刻液的使用效率,减少了蚀刻液再生过程中有机溶剂的使用,减轻了对环境造成的污染。

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