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一种基于时空协同变换曝光提高光刻分辨率的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010502150.8
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2020-06-04
  • 申请人:
    东北师范大学
著录项信息
专利名称一种基于时空协同变换曝光提高光刻分辨率的方法
申请号CN202010502150.8申请日期2020-06-04
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-08-21公开/公告号CN111562725A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人东北师范大学申请人地址
吉林省长春市人民大街5268号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东北师范大学当前权利人东北师范大学
发明人刘华;郭书平
代理机构成都时誉知识产权代理事务所(普通合伙)代理人田高洁
摘要
本发明公开了一种基于时空协同变换曝光提高光刻分辨率的方法,涉及DMD器件成像曝光领域,包括将平台微移动、DMD图形变换和曝光能量调节三种动态量进行协同匹配,形成时空协同变换的曝光方式提高光刻分辨率,通过将时空协同变换技术应用于DMD投影光刻,可以在不降低DMD微镜尺寸或投影透镜放大率的情况下显著改善光刻图案的边缘平滑度,利用CAD量化图形,再用matlab提取子图,结合压电平台微位移同时控制曝光能量进行子图错位叠加曝光,在提高光刻图形边缘的平滑度的同时,可以准确控制图形线宽。

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