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一种半导体基板用保护膜是否剥离监视装置及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010553455.1
  • IPC分类号:G01V8/10
  • 申请日期:
    2020-06-17
  • 申请人:
    考姆爱斯株式会社
著录项信息
专利名称一种半导体基板用保护膜是否剥离监视装置及方法
申请号CN202010553455.1申请日期2020-06-17
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-09-07公开/公告号CN113359205A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01V8/10IPC分类号G;0;1;V;8;/;1;0查看分类表>
申请人考姆爱斯株式会社申请人地址
韩国忠清北道清州市兴德邱公团路98番吉77 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人考姆爱斯株式会社当前权利人考姆爱斯株式会社
发明人黄善伍
代理机构北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)代理人汤东凤
摘要
本发明涉及PCB板生产技术领域,具体涉及一种半导体基板用保护膜是否剥离监视装置及方法,包括发光装置,所述发光装置朝向基板即拍摄对象正向照射光;第一偏光子,所述第一偏光子位于所述发光装置的前方,使所述发光装置生成的光变换成线偏光,入射到拍摄对象方向;第二偏光子,所述第二偏光子与所述第一偏光子具有直交性,位于基板与受光传感器之间,使被基板反射的第一反射光变换成第二反射光,穿过受光传感器方向;受光传感器,所述受光传感器接受穿过所述第二偏光子的光,生成光相关电信号并传输给控制部;控制部,所述控制部以从受光传感器传输的光相关电信号或光强度值为基础,判断检查对象基板T表面是否残留有膜。

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