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形成微型化吸气剂沉积层的方法以及由此制得的吸气剂沉积层

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200680011659.0
  • IPC分类号:H01L21/027;G03F7/004
  • 申请日期:
    2006-04-11
  • 申请人:
    工程吸气公司
著录项信息
专利名称形成微型化吸气剂沉积层的方法以及由此制得的吸气剂沉积层
申请号CN200680011659.0申请日期2006-04-11
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2008-04-02公开/公告号CN101156227
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/027IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;0;2;7;;;G;0;3;F;7;/;0;0;4查看分类表>
申请人工程吸气公司申请人地址
意大利米兰 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人工程吸气公司当前权利人工程吸气公司
发明人M·莫拉加;A·孔特;S·瓜达尼沃洛
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人任宗华
摘要
公开了一种形成微型化吸气剂沉积层的方法,该方法包括:在基体(10)上形成光敏聚合物材料层(11);对聚合物层进行选择性曝光,以在部分聚合物层中发生化学改性;仅用溶剂除去聚合物层中已曝光或未曝光部分,以在聚合物层中形成孔穴(12,12’...);通过阴极沉积法在所述孔穴的底和剩余聚合物层上形成吸气剂材料的薄层(13);用第二溶剂除去第一溶剂未除去的聚合物部分,而在基体表面上留下至少一层吸气材料沉积层(131、131’,...;20)。本发明还涉及通过本方法获得的微型化吸气剂沉积层。

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