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一种提高AF性能的镀膜改善设备

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201822094815.7
  • IPC分类号:C23C14/26;C23C14/50;C23C14/52;C23C14/54;C23C14/12
  • 申请日期:
    2018-12-13
  • 申请人:
    深圳市悦目光学器件有限公司
著录项信息
专利名称一种提高AF性能的镀膜改善设备
申请号CN201822094815.7申请日期2018-12-13
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/26IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;2;6;;;C;2;3;C;1;4;/;5;0;;;C;2;3;C;1;4;/;5;2;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4;;;C;2;3;C;1;4;/;1;2查看分类表>
申请人深圳市悦目光学器件有限公司申请人地址
广东省深圳市龙华新区大浪办事处大浪社区黄麻埔美宝路玉壶工业区1栋1-3层、4栋1-3层、7栋1-3层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳市悦目光学器件有限公司当前权利人深圳市悦目光学器件有限公司
发明人张元胜
代理机构北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)代理人汤东凤
摘要
本实用新型公开了一种提高AF性能的镀膜改善设备,包括真空镀膜腔体,所述真空镀膜腔体的前表面嵌入安装有延伸透明管,且真空镀膜腔体的前表面靠近延伸透明管的下方位置处嵌入安装有控制器,所述真空镀膜腔体的顶部焊接有步进电机,所述步进电机的上表面嵌入安装有轴承,所述轴承的外壁套接有传动皮带,所述传动皮带的内部设置有转动轴。本实用新型通过转动轴带动治具伞的匀速转动,使基片得以均匀受到AF药丸的化学作用,避免了基片镀膜不均的情况,通过将纯铜电极的直径延长,提高了多位钼舟的高度,使其AF药丸在蒸发时距离基片的位置更加接近,通过多位钼舟可以增加AF药丸的放置使用量。

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