用于控制嵌段共聚物和另外化合物之间的界面处的表面能的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201680039637.9
IPC分类号：G03F7/00
申请日期：
2016-05-26
申请人：
阿科玛法国公司;国家科学研究中心;波尔多理工学院;波尔多大学

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著录项信息

专利名称	用于控制嵌段共聚物和另外化合物之间的界面处的表面能的方法
申请号	CN201680039637.9	申请日期	2016-05-26
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2018-02-23	公开/公告号	CN107735727A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	阿科玛法国公司;国家科学研究中心;波尔多理工学院;波尔多大学	申请人地址	法国科隆布变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	阿科玛法国公司,国家科学研究中心,波尔多理工学院,波尔多大学	当前权利人	阿科玛法国公司,国家科学研究中心,波尔多理工学院,波尔多大学
发明人	X.舍瓦利耶;C.尼科利特;C.纳瓦罗;G.哈德齐奥安努
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	詹承斌

摘要

本发明涉及用于控制嵌段共聚物(BCP1)的顶部界面处的表面能的方法，以便获得垂直于顶部界面和底部界面两者的所述嵌段共聚物(BCP1)的纳米畴取向，所述嵌段共聚物(BCP1)的底部界面与基底的预中性化的表面接触，所述方法在于用上表面中性化层(TC)覆盖所述嵌段共聚物(BCP1)的上表面，且所述方法的特征在于所述上表面中性化层(TC)由第二嵌段共聚物(BCP2)组成。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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