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一种新型真空吸嘴

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201420261726.6
  • IPC分类号:H01L21/683;H01L33/00
  • 申请日期:
    2014-05-21
  • 申请人:
    深圳市良机自动化设备有限公司
著录项信息
专利名称一种新型真空吸嘴
申请号CN201420261726.6申请日期2014-05-21
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/683IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;8;3;;;H;0;1;L;3;3;/;0;0查看分类表>
申请人深圳市良机自动化设备有限公司申请人地址
广东省深圳市光明新区公明办事处田寮社区第十工业区(汉海达工业园)2栋十楼 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳市良机自动化设备有限公司当前权利人深圳市良机自动化设备有限公司
发明人薛克瑞;白志坚
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型公开了一种新型真空吸嘴,包括底板、承载块、限位块,所述底板的一端及两侧设有用于卡接固定所述承载块一端的凸部,承载块通过扣合于其上部的限位块与底板固定;所述限位块的外伸端上设有限位槽,所述承载块上设有第一通道,所述第一通道的一端连通至所述限位槽下部,另一端与设于底板上的第二通道的一端连通,所述第二通道的另一端与真空发生装置连通。本实用新型公开的新型真空吸嘴能够适用于EMC支架的LED元件,同时具有结构简单、加工容易、安装方便、适用性广的优点。

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