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用于制造集成电路的设备和方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201080014972.6
  • IPC分类号:H05K3/12
  • 申请日期:
    2010-03-24
  • 申请人:
    皇家飞利浦电子股份有限公司
著录项信息
专利名称用于制造集成电路的设备和方法
申请号CN201080014972.6申请日期2010-03-24
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2012-02-29公开/公告号CN102365909A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H05K3/12IPC分类号H;0;5;K;3;/;1;2查看分类表>
申请人皇家飞利浦电子股份有限公司申请人地址
荷兰艾恩德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人皇家飞利浦电子股份有限公司当前权利人皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人W-J.A.德威斯;M.J.范德桑德
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人周红力;刘鹏
摘要
本发明涉及一种用于制造具有厚膜金属层(14)的集成电路(10)的设备。金属浆糊(14)层经由涂覆装置(24)涂覆到导热衬底(12)上。金属浆糊(14)包括预定尺寸的金属颗粒。RF发生器(16)将RF能量(18)选择性地感应耦合进入金属浆糊(14)内。金属浆糊(14)的金属颗粒的预定尺寸与RF能量(18)的耦合频率相对应,用于加热金属颗粒。以这种方式,金属浆糊(14)的金属颗粒被加热,而仅需要传统工艺的一小部分功率,且不需要预烧结金属浆糊(14)。

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