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高频下具有低介电常数和损耗的硅氧烷及其制备方法和应用

发明专利有效专利

申请号：
CN202010813742.1
IPC分类号：C07F7/08C08F130/08
申请日期：
2020-08-13
申请人：
中国科学院上海有机化学研究所

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	高频下具有低介电常数和损耗的硅氧烷及其制备方法和应用
申请号	CN202010813742.1	申请日期	2020-08-13
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-11-10	公开/公告号	CN111909192A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C07F7/08 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C07 有机化学〔2〕 C07F 含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物（含金属的卟啉入C07D 487/22；高分子化合物入C08） C07F7/00 含周期表第4或14族元素的化合物 C07F7/02 硅化合物 C07F7/08 具有1个或更多的C-Si键的化合物	IPC分类号	C07F7/08;C08F130/08查看分类表>
申请人	中国科学院上海有机化学研究所	申请人地址	上海市徐汇区零陵路3*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院上海有机化学研究所	当前权利人	中国科学院上海有机化学研究所
发明人	房强;刘凤萍;孙晶
代理机构	上海一平知识产权代理有限公司	代理人	高一平;徐迅

摘要

本发明涉及高频下具有低介电常数和损耗的硅氧烷及其制备方法和应用。具体地，本发明公开了一种硅氧烷单体，以所述单体固化所得树脂在高频下具有低介电常数和低介电损耗、高耐热性、良好加工性和低吸水率，特别适合用于制备高频电路板。

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